核心提示：纯水超纯水设备适用于集成电路芯片、单晶硅、显像管、液晶显示器、计算机硬盘、线路板等工艺所需的纯水和超纯水制备。
纯水超纯水设备适用于集成电路芯片、单晶硅、显像管、液晶显示器、计算机硬盘、线路板等工艺所需的纯水和超纯水制备。在严格执行ISO-9001质量体系标准的前提下，采用世界上先进的反渗透膜元件。压力容器和高压泵、配以合理而又高效的前处理设备及后处理设备，使产品出水符合各类工业生产标准的超纯水。
控制系统选用PLC程序控制，可实现自动起停、冲洗，自动监测各种运行参数，并可实现运行参数的储存及打印广泛适用于：半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路LCD、EL、PDP、TFT、玻壳、显像管超纯材料。
纯水超纯水设备工艺流程：
1.预处理系统－反渗透系统－中间水箱－纯水泵－粗混合床－精混合床－紫外线杀菌器－精密过滤器－用水对象（≥15MΩ.CM）(传统工艺)
2.预处理系统－反渗透系统－中间水箱－粗混合床－精混合床－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－精密过滤器－用水对象（≥18MΩ.CM）(传统工艺)
3.预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥18MΩ.CM）
4.预处理－一级反渗透－加机（PH调节）－中间水箱－二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯水箱－纯水泵－EDI装置－紫外线杀菌器－精密过滤器（0.2或0.5μm）－用水对象（≥17MΩ.CM）
5.预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥15MΩ.CM）
更多详情：https://www.chem17.com/st418091/product_34994064.html
http://www.szscyhb.com/ParentList-2154007.html
控制系统选用PLC程序控制，可实现自动起停、冲洗，自动监测各种运行参数，并可实现运行参数的储存及打印广泛适用于：半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路LCD、EL、PDP、TFT、玻壳、显像管超纯材料。
纯水超纯水设备工艺流程：
1.预处理系统－反渗透系统－中间水箱－纯水泵－粗混合床－精混合床－紫外线杀菌器－精密过滤器－用水对象（≥15MΩ.CM）(传统工艺)
2.预处理系统－反渗透系统－中间水箱－粗混合床－精混合床－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－精密过滤器－用水对象（≥18MΩ.CM）(传统工艺)
3.预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥18MΩ.CM）
4.预处理－一级反渗透－加机（PH调节）－中间水箱－二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯水箱－纯水泵－EDI装置－紫外线杀菌器－精密过滤器（0.2或0.5μm）－用水对象（≥17MΩ.CM）
5.预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥15MΩ.CM）
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